CVD SiC کوٹنگ Epitaxy susceptor

Veteksemicon کا CVD SiC Coating Epitaxy Susceptor ایک درست انجنیئر ٹول ہے جو سیمی کنڈکٹر ویفر پروسیسنگ کے لیے ڈیزائن کیا گیا ہے۔ یہ SiC Coating Epitaxy Susceptor پتلی فلموں، ایپلیئرز اور دیگر کوٹنگز کی نشوونما میں اہم کردار ادا کرتا ہے، اور درجہ حرارت اور مادی خصوصیات کو درست طریقے سے کنٹرول کر سکتا ہے۔ آپ کی مزید پوچھ گچھ کا خیرمقدم کرتے ہیں۔

بنیادیCVD SiC کوٹنگ کی جسمانی خصوصیات:

CVD SiC کوٹنگ Epitaxy Susceptor مصنوعات کے فوائد:

● عین جمع: Susceptor سبسٹریٹس (جیسے نیلم، SiC یا GaN) کے لیے ایک مستحکم سپورٹ پلیٹ فارم فراہم کرنے کے لیے ایک انتہائی تھرمل طور پر کنڈکٹیو گریفائٹ سبسٹریٹ کو SiC کوٹنگ کے ساتھ جوڑتا ہے۔ اس کی اعلی تھرمل چالکتا (جیسے SiC تقریباً 120 W/m·K ہے) گرمی کو تیزی سے منتقل کر سکتی ہے اور ذیلی سطح پر درجہ حرارت کی یکساں تقسیم کو یقینی بناتی ہے، اس طرح ایپیٹیکسیل پرت کی اعلیٰ معیار کی نشوونما کو فروغ دیتی ہے۔

● آلودگی میں کمی: CVD کے عمل سے تیار کردہ SiC کوٹنگ میں انتہائی اعلیٰ پاکیزگی (نپاکی کا مواد <5 ppm) ہے اور یہ corrosive گیسوں (جیسے Cl₂، NH₃) کے خلاف انتہائی مزاحم ہے، جو epitaxial تہہ کی آلودگی سے بچتا ہے۔

● پائیداری: SiC کی اعلی سختی (Mohs hardness 9.5) اور پہننے کی مزاحمت بار بار استعمال کے دوران بیس کے مکینیکل نقصان کو کم کرتی ہے اور اعلی تعدد والے سیمی کنڈکٹر پروڈکشن کے عمل کے لیے موزوں ہیں۔

VeTeksemicon اعلیٰ معیار کی مصنوعات اور مسابقتی قیمتیں فراہم کرنے کے لیے پرعزم ہے۔ ہم چین میں آپ کے طویل مدتی پارٹنر بننے کے منتظر ہیں۔

VeTek سیمی کنڈکٹر مصنوعات کی دکانیں: