خبریں

سیمیکمڈکٹر مینوفیکچرنگ میں کیمیائی بخارات جمع (سی وی ڈی) کا استعمال چیمبر میں پتلی فلمی مواد جمع کرنے کے لئے کیا جاتا ہے ، جس میں سی او 2 ، گناہ ، وغیرہ شامل ہیں ، اور عام طور پر استعمال ہونے والی اقسام میں پی ای سی وی ڈی اور ایل پی سی وی ڈی شامل ہیں۔ درجہ حرارت ، دباؤ اور رد عمل گیس کی قسم کو ایڈجسٹ کرکے ، سی وی ڈی مختلف عمل کی ضروریات کو پورا کرنے کے لئے اعلی طہارت ، یکسانیت اور فلم کی اچھی کوریج حاصل کرتی ہے۔

اس مضمون میں بنیادی طور پر سلیکن کاربائڈ سیرامکس کے وسیع اطلاق کے امکانات کی وضاحت کی گئی ہے۔ اس میں سلیکن کاربائڈ سیرامکس میں سائنٹرنگ دراڑوں کی وجوہات اور اس سے متعلقہ حلوں کے تجزیے پر بھی توجہ دی گئی ہے۔

سیمی کنڈکٹر مینوفیکچرنگ میں اینچنگ ٹیکنالوجی کو اکثر مسائل کا سامنا کرنا پڑتا ہے جیسے لوڈنگ اثر، مائیکرو گروو اثر اور چارجنگ اثر، جو مصنوعات کے معیار کو متاثر کرتے ہیں۔ بہتری کے حل میں پلازما کی کثافت کو بہتر بنانا، رد عمل کی گیس کی ساخت کو ایڈجسٹ کرنا، ویکیوم سسٹم کی کارکردگی کو بہتر بنانا، مناسب لیتھوگرافی لے آؤٹ ڈیزائن کرنا، اور مناسب اینچنگ ماسک مواد اور عمل کے حالات کا انتخاب شامل ہیں۔

اعلی کارکردگی والے ایس آئی سی سیرامکس کی تیاری کے لئے گرم ، شہوت انگیز دبانے والا sintering بنیادی طریقہ ہے۔ گرم دبانے والے sintering کے عمل میں شامل ہیں: اعلی طہارت SIC پاؤڈر کا انتخاب ، اعلی درجہ حرارت اور اعلی دباؤ کے تحت دبانے اور مولڈنگ ، اور پھر sintering۔ اس طریقہ کار کے ذریعہ تیار کردہ ایس آئی سی سیرامکس میں اعلی طہارت اور اعلی کثافت کے فوائد ہیں ، اور ویفر پروسیسنگ کے لئے پیسنے والی ڈسکس اور حرارت کے علاج کے سامان میں بڑے پیمانے پر استعمال ہوتے ہیں۔

Silicon carbide (SiC) کے کلیدی ترقی کے طریقوں میں PVT، TSSG، اور HTCVD شامل ہیں، ہر ایک کے الگ الگ فوائد اور چیلنجز ہیں۔ کاربن پر مبنی تھرمل فیلڈ میٹریل جیسے موصلیت کے نظام، کروسیبلز، ٹی اے سی کوٹنگز، اور غیر محفوظ گریفائٹ استحکام، تھرمل چالکتا، اور پاکیزگی فراہم کرکے کرسٹل کی نمو کو بڑھاتے ہیں، جو SiC کی درست ساخت اور اطلاق کے لیے ضروری ہے۔