مصنوعات
ویفر کیریئر کے لیے CVD SiC لیپت گریفائٹ سسپٹر
  • ویفر کیریئر کے لیے CVD SiC لیپت گریفائٹ سسپٹرویفر کیریئر کے لیے CVD SiC لیپت گریفائٹ سسپٹر

ویفر کیریئر کے لیے CVD SiC لیپت گریفائٹ سسپٹر

VETEK CVD SiC Coated Graphite Susceptor for Wafer Carrier ایک اعلی کارکردگی والا ویفر سپورٹ جزو ہے جو سیمی کنڈکٹر ایپیٹیکسی عمل کے لیے ڈیزائن کیا گیا ہے۔ پروڈکٹ میں اعلیٰ پاکیزگی والے گریفائٹ کو سبسٹریٹ کے طور پر استعمال کیا گیا ہے اور اسے یکساں CVD سلکان کاربائیڈ (SiC) پرت کے ساتھ لیپت کیا گیا ہے، جو بہترین تھرمل استحکام، کیمیائی مزاحمت اور ذرہ کنٹرول فراہم کرتا ہے۔ ایک اہم گریفائٹ سسپٹر جزو کے طور پر، یہ ری ایکشن چیمبر کے اندر ویفرز کو براہ راست سپورٹ کرتا ہے اور درجہ حرارت کی یکساں تقسیم اور مستحکم افزائشی ترقی کے حالات کو برقرار رکھنے میں مدد کرتا ہے۔

1. مصنوعات کے فوائد


  • اعلی طہارت کا مواد:سیمی کنڈکٹر گریڈ گریفائٹ مواد اور گھنے SiC کوٹنگ کا ڈھانچہ آلودگی کے خطرات کو کم کرتا ہے اور CVD SiC لیپت گریفائٹ سسپٹر کی وشوسنییتا کو بہتر بناتا ہے۔
  • بہترین تھرمل یکسانیت:آپٹمائزڈ گریفائٹ ڈھانچہ اور SiC کوٹنگ مستحکم حرارت کی منتقلی اور یکساں ویفر درجہ حرارت کو کنٹرول فراہم کرتی ہے۔
  • اعلی کیمیائی مزاحمت:گھنے SiC کوٹنگ پروسیسنگ گیسوں اور سنکنرن ماحول کے خلاف مضبوط مزاحمت پیش کرتی ہے۔
  • طویل سروس کی زندگی:اعلی سختی اور پہننے کی مزاحمت اعلی درجہ حرارت کے ایپیٹیکسی حالات میں استحکام کو بہتر بناتی ہے۔
  • کم پارٹیکل جنریشن:گھنے CVD SiC سطح ذرات کے اخراج کو کم کرتی ہے اور ویفر کے عمل کی وشوسنییتا کو بہتر بناتی ہے۔
  • اپنی مرضی کے مطابق ڈیزائن کی صلاحیت:آلات کی ضروریات کے مطابق مختلف سائز، ڈھانچے اور ترتیب میں دستیاب ہے۔



2. تکنیکی تفصیلات

آئٹم
عام قدر
سبسٹریٹ مواد
ہائی پیوریٹی گریفائٹ
کوٹنگ کا مواد
CVD سلکان کاربائیڈ (SiC)
ایس سی پیوریٹی
≥99.999%
کوٹنگ موٹائی
100 ± 20 μm (اپنی مرضی کے مطابق)
کوٹنگ موٹائی یکسانیت
بیچوں کے درمیان 10 μm کے اندر کنٹرول کیا جاتا ہے۔
CVD SiC کوٹنگ کی کثافت
3.21 گرام/cm³
تھرمل چالکتا
300 W/m·K
تھرمل ایکسپینشن گتانک
4.5 × 10⁻⁶/K

3. درخواستیں


  • ایس آئی سی ایپیٹیکسی عمل:گریفائٹ سسپٹر کو SiC ایپیٹیکسی آلات میں ویفر کیریئر کے طور پر استعمال کیا جاتا ہے، جو اعلی درجہ حرارت کے اپیٹیکسیل نمو کے دوران SiC سبسٹریٹس کو سپورٹ کرتا ہے۔
  • سلکان ایپیٹیکسی عمل:ویفرز کو سپورٹ کرنے اور مستحکم تھرمل حالات کو برقرار رکھنے کے لیے سلکان ایپیٹیکسیل ری ایکٹرز میں لاگو کیا جاتا ہے۔
  • MOCVD Epitaxy:VETEK گریفائٹ سسپٹرز MOCVD، LED epitaxy، GaN epitaxy، Silicon epitaxy، اور دیگر سیمی کنڈکٹر مینوفیکچرنگ کے عمل کے لیے موزوں ہیں جن کے لیے بہترین تھرمل یکسانیت اور کیمیائی استحکام کی ضرورت ہوتی ہے۔
  • سیمی کنڈکٹر مینوفیکچرنگ کا سامان:مختلف ایپیٹیکسی پلیٹ فارمز کے ساتھ مطابقت رکھتا ہے، بشمول LPE افقی فرنس، Aixtron، NuFlare، اور متعلقہ سیمی کنڈکٹر آلات۔



4. VETEK کیوں منتخب کریں؟

VETEK اپنی مرضی کے مطابق CVD SiC کوٹڈ گریفائٹ سسپٹر حل فراہم کرتا ہے جو گریفائٹ پیوریفیکیشن، پریزیشن مشیننگ، CVD کوٹنگ، اور معائنہ کی صلاحیتوں کو یکجا کرتا ہے۔ ہمارے سیمی کنڈکٹر گریڈ گریفائٹ سسپٹر پروڈکٹس میں اعلی طہارت، یکساں کوٹنگ کی موٹائی، بہترین تھرمل کارکردگی، اور ویفر کیریئر ایپلی کیشنز کی مانگ کے لیے طویل سروس لائف شامل ہیں۔

ہاٹ ٹیگز: CVD SiC Coated Graphite Susceptor, Graphite Susceptor, SiC Coated Graphite Wafer Carrier, Semiconductor Epitaxy Susceptor, MOCVD Graphite Susceptor, SiC Wafer Carrier, CVD SiC Graphite Susceptor
انکوائری بھیجیں۔
رابطہ کی معلومات
  • پتہ

    وانگڈا روڈ، زیانگ اسٹریٹ، ووئی کاؤنٹی، جنہوا سٹی، ژیجیانگ صوبہ، چین

  • ٹیلی فون

    +86-18069220752

  • ای میل

    anny@veteksemi.com

For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
ہم آپ کو براؤزنگ کا بہتر تجربہ پیش کرنے ، سائٹ ٹریفک کا تجزیہ کرنے اور مواد کو ذاتی نوعیت دینے کے لئے کوکیز کا استعمال کرتے ہیں۔ اس سائٹ کا استعمال کرکے ، آپ کوکیز کے ہمارے استعمال سے اتفاق کرتے ہیں۔ رازداری کی پالیسی
مستردقبول کریں