سیمی کنڈکٹر عمل: کیمیائی بخارات جمع (CVD)

سیمی کنڈکٹرز اور ایف پی ڈی پینل ڈسپلے میں، پتلی فلموں کی تیاری ایک اہم عمل ہے۔ پتلی فلمیں تیار کرنے کے بہت سے طریقے ہیں (TF, Thin Film)، درج ذیل دو طریقے عام ہیں:

● CVD (کیمیائی بخارات جمع)

● پی وی ڈی (جسمانی بخارات جمع)

ان میں سے، بفر پرت/ایکٹو پرت/انسولیٹنگ پرت سبھی PECVD کا استعمال کرتے ہوئے مشین کے چیمبر میں جمع ہوتی ہیں۔

special خصوصی گیسوں کا استعمال کریں: گناہ اور سی/سی او 2 فلموں کے جمع کرنے کے لئے SIH4/NH3/N2O۔

● کچھ سی وی ڈی مشینوں کو کیریئر کی نقل و حرکت کو بڑھانے کے لئے ہائیڈروجنیشن کے لئے H2 استعمال کرنے کی ضرورت ہے۔

● NF3 ایک صفائی گیس ہے۔ اس کے مقابلے میں: F2 انتہائی زہریلا ہے ، اور SF6 کا گرین ہاؤس اثر NF3 سے زیادہ ہے۔

سیمی کنڈکٹر ڈیوائس کے عمل میں، پتلی فلموں کی مزید اقسام ہیں، عام SiO2/Si/SiN کے علاوہ، W، Ti/TiN، HfO2، SiC، وغیرہ بھی ہیں۔

یہی وجہ ہے کہ سیمیکمڈکٹر انڈسٹری میں جدید ترین مواد کے لئے بہت سارے قسم کے پیشگی ہیں ، تاکہ مختلف قسم کی پتلی فلمیں بنائیں۔

ہم اسے مندرجہ ذیل طریقے سے بیان کرتے ہیں:

1. سی وی ڈی کی اقسام اور کچھ پیشگی گیسیں

2. سی وی ڈی اور فلمی معیار کا بنیادی طریقہ کار

1. سی وی ڈی کی اقسام اور کچھ پیشگی گیسیں

سی وی ڈی ایک بہت ہی عام تصور ہے اور اسے بہت سی اقسام میں تقسیم کیا جاسکتا ہے. عام ہیں:

● pecvd: پلازما بہتر سی وی ڈی

● LPCVD: کم پریشر CVD

● ALD: جوہری پرت جمع

● mocvd: دھاتی-نامیاتی CVD

CVD کے عمل کے دوران، کیمیائی رد عمل سے پہلے پیشگی کے کیمیائی بانڈز کو توڑنا ضروری ہے۔

کیمیائی بانڈوں کو توڑنے کے لئے توانائی گرمی سے آتی ہے ، لہذا چیمبر کا درجہ حرارت نسبتا high زیادہ ہوگا ، جو کچھ عملوں کے لئے دوستانہ نہیں ہے ، جیسے پینل کا سبسٹریٹ گلاس یا لچکدار اسکرین کا PI مواد۔ لہذا ، کچھ عملوں کو پورا کرنے کے لئے عمل کے درجہ حرارت کو کم کرنے کے ل other دیگر توانائی (پلازما وغیرہ کی تشکیل) کو ان پٹ کرکے ، جس میں درجہ حرارت کی ضرورت ہوتی ہے ، تھرمل بجٹ کو بھی کم کیا جائے گا۔

لہذا ، A-SI کی PECVD جمع: H/SIN/Poly-Si وسیع پیمانے پر FPD ڈسپلے انڈسٹری میں استعمال ہوتا ہے۔ عام سی وی ڈی پیشگی اور فلمیں:

پولی کرسٹل لائن سلیکن/سنگل کرسٹل سلیکن سی او 2 گناہ/سیون ڈبلیو/ٹی آئی ڈبلیو ایس آئی 2 ایچ ایف او 2/ایس آئی سی

سی وی ڈی کے بنیادی میکانزم کے اقدامات:

1. رد عمل کی پیشگی گیس چیمبر میں داخل ہوتی ہے۔

2. گیس کے رد عمل سے پیدا ہونے والی انٹرمیڈیٹ مصنوعات

3. گیس کی انٹرمیڈیٹ مصنوعات سبسٹریٹ سطح پر پھیل جاتی ہیں

4. سبسٹریٹ کی سطح پر جذب شدہ اور پھیلا ہوا ہے۔

5. کیمیائی رد عمل سبسٹریٹ سطح پر ہوتا ہے، نیوکلیشن/جزیرے کی تشکیل/فلم کی تشکیل

6. بائی پروڈکٹس علاج کے ل the اسکربر میں داخل ہونے کے بعد ویکیوم پمپ اور فارغ کردیئے جاتے ہیں

جیسا کہ پہلے ذکر کیا گیا ہے، پورے عمل میں متعدد مراحل شامل ہیں جیسے کہ بازی/ جذب/ رد عمل۔ فلم کی تشکیل کی مجموعی شرح بہت سے عوامل سے متاثر ہوتی ہے، جیسے درجہ حرارت/دباؤ/ رد عمل کی گیس کی قسم/ سبسٹریٹ کی قسم۔ ڈفیوژن کی پیش گوئی کے لئے ایک بازی ماڈل ہے ، جذب کرنے والا ایک جذب کا نظریہ ہے ، اور کیمیائی رد عمل میں رد عمل کینیٹکس تھیوری ہے۔

پورے عمل میں ، سب سے سست قدم پورے رد عمل کی شرح کا تعین کرتا ہے۔ یہ پروجیکٹ مینجمنٹ کے اہم راہ کے طریقہ کار سے بہت ملتا جلتا ہے۔ سب سے طویل سرگرمی کا بہاؤ پروجیکٹ کی مختصر مدت کا تعین کرتا ہے۔ اس راستے کے وقت کو کم کرنے کے لئے وسائل مختص کرکے مدت کو مختصر کیا جاسکتا ہے۔ اسی طرح ، سی وی ڈی کلیدی رکاوٹ تلاش کرسکتا ہے جو پورے عمل کو سمجھنے کے ذریعہ فلم کی تشکیل کی شرح کو محدود کرتا ہے ، اور فلم کی تشکیل کی مثالی شرح کو حاصل کرنے کے لئے پیرامیٹر کی ترتیبات کو ایڈجسٹ کرسکتا ہے۔

2. سی وی ڈی فلم کے معیار کی تشخیص

کچھ فلمیں فلیٹ ہیں ، کچھ سوراخ بھر رہے ہیں ، اور کچھ بہت مختلف افعال کے ساتھ نالی بھر رہے ہیں۔ تجارتی CVD مشینوں کو بنیادی ضروریات کو پورا کرنا ضروری ہے:

● مشین پروسیسنگ کی گنجائش ، جمع کی شرح

● مستقل مزاجی

● گیس کے مرحلے کے رد عمل ذرات پیدا نہیں کر سکتے۔ یہ بہت اہم ہے کہ گیس کے مرحلے میں ذرات پیدا نہ ہوں۔

کچھ دیگر تشخیص کی ضروریات مندرجہ ذیل ہیں:

● اچھا قدم کوریج

high اعلی پہلو تناسب کے فرق کو پُر کرنے کی صلاحیت (موافقت)

● اچھی موٹائی یکسانیت

● اعلی طہارت اور کثافت

film کم فلمی دباؤ کے ساتھ ساختی کمال کی اعلی ڈگری

● اچھی برقی خصوصیات

● سبسٹریٹ مواد کے ساتھ بہترین چپکنے والا